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光刻机像质检测技术（上册） 
定 价：248 元
9 7 6 8 7 7 3 0 5 3 4 0 1 读者对象:本书适合企业、高校和科研院所从事高端光刻机研发的科研人员阅读参考，也可供相关研究方向的研究生学习。另外，本书也可为从事光学成像相关技术研究的科技人员提供参考。
光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。
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