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点击返回 当前位置:首页 > 中图法 【TN3 半导体技术】 分类索引
  • 芯片用硅晶片的加工技术
    • 芯片用硅晶片的加工技术
    • 张厥宗 编著/2021-8-1/ 化学工业出版社/定价:¥198
    • 《芯片用硅晶片的加工技术》由浅入深地介绍了半导体硅及集成电路的有关知识,并着重对满足纳米集成电路用优质大直径300mm硅单晶抛光片和太阳能光伏产业用晶体硅太阳电池晶片的制备工艺、技术,以及对生产工艺厂房的设计要求进行了全面系统的论述。书中附有大量插图、表格等技术资料,可供致力于半导体硅材料工作的科技人员、企业管理人员和

    • ISBN:9787122387431
  • 新能源系列--LED封装技术与应用(沈洁)(第二版)
    • 新能源系列--LED封装技术与应用(沈洁)(第二版)
    • 沈洁 主编/2021-8-1/ 化学工业出版社/定价:¥49
    • 本书从LED芯片制作、LED封装和LED应用等方面介绍了LED的基本概念与相关技术,详细讲解了LED封装过程中和开发应用产品时应该注意的一些技术问题,并以引脚式LED封装为基础,进一步介绍了平面发光式、SMD、大功率LED的三种不同封装形式及其相应的产品在实际生产中的操作技术。本书还讨论了LED在不同领域的应用技术,最

    • ISBN:9787122390905
  • 硅锗低维材料可控生长
    • 硅锗低维材料可控生长
    • 马英杰,蒋最敏,钟振扬/2021-6-1/ 科学出版社/定价:¥145
    • 本书首先简要介绍低维异质半导体材料及其物理性质,概述刻蚀和分子束外延生长两种基本的低维半导体材料制备方法,简要说明了分子束外延技术设备的工作原理和低维异质结构的外延生长过程及其工艺发展。接着分别从热力学和动力学的角度详细阐述了硅锗低维结构的外延生长机理及其相关理论,重点讨论了图形衬底上的硅锗低维结构可控生长理论和硅锗低

    • ISBN:9787030685162
  • 半导体薄膜技术与物理(第三版)
    • 半导体薄膜技术与物理(第三版)
    • 叶志镇 著,叶志镇,吕建国,吕斌,张银珠,戴兴良 编/2021-6-1/ 浙江大学出版社/定价:¥59
    • 本书全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础,全书共分十一章。第一章概述了真空技术,第二至第八章分别介绍了蒸镀、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术,第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论,第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术,第十

    • ISBN:9787308209489
  • 表面组装技术(SMT)
    • 表面组装技术(SMT)
    • 杜中一 编著/2021-6-1/ 化学工业出版社/定价:¥48
    • 表面组装技术(SMT)是指把表面组装元器件按照电路的要求放置在预先涂敷好焊膏的PCB的表面上,通过焊接形成可靠的焊点,建立长期的机械和电气连接的组装技术。本书以表面组装技术(SMT)生产过程为主线,详细介绍了电子产品的表面组装技术,主要内容包括表面组装技术概述、表面组装材料、表面涂敷、贴片、焊接、清洗、检测与返修等,其

    • ISBN:9787122386861
  • 半导体光电子器件
    • 半导体光电子器件
    • 胡辉勇/2021-5-1/ 西安电子科技大学出版社/定价:¥38
    • 本书从光的特性入手,详细介绍了半导体材料光电特性以及光、电相互作用机制和基本物理过程,重点阐述了半导体太阳能电池、光电导器件、光电二极管、光电耦合器件、CMOS图像传感器、发光二极管和半导体激光器等半导体光电子器件的工作机制、基本物理过程、基本性能曲线、关键参数及影响器件性能的因素等。本书既可作为微电子、光电子及相关学

    • ISBN:9787560655581
  • 氮化镓基半导体异质结构及二维电子气
    • 氮化镓基半导体异质结构及二维电子气
    • 沈波 著/2021-4-1/ 西安电子科技大学出版社/定价:¥88
    • GaN基宽禁带半导体异质结构具有很高的应用价值,是发展高频、高功率电子器件*优选的半导体材料。本书基于国内外GaN基电子材料和器件的发展现状和趋势,从晶体结构、能带结构、衬底材料、外延生长、射频电子器件和功率电子器件研制等方面详细论述了GaN基半导体异质结构和二维电子气的物理性质、国内外发展动态、面临的关键科学技术问题

    • ISBN:9787560659060
  • 光刻机像质检测技术(下册)
    • 光刻机像质检测技术(下册)
    • 王向朝等/2021-4-1/ 科学出版社/定价:¥228
    • 光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术,详细介绍了本团队提出的系列新技术,涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术,包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技

    • ISBN:9787030673558
  • 光刻机像质检测技术(上册)
    • 光刻机像质检测技术(上册)
    • 王向朝等/2021-4-1/ 科学出版社/定价:¥248
    • 光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术,详细介绍了本团队提出的系列新技术,涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术,包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技

    • ISBN:9787030673541
  • 纳米CMOS器件及电路的辐射效应
    • 纳米CMOS器件及电路的辐射效应
    • 刘保军/2021-4-1/ 电子工业出版社/定价:¥79
    • 本书主要介绍广泛存在的各种辐射对纳米CMOS器件及其电路的影响,涵盖了各种辐射环境分析、电离损伤机理研究、纳米器件的总剂量效应和单粒子效应的建模仿真、辐射效应对纳米电路的影响及辐照实验设计等,综合考虑器件特征尺寸缩减对辐射效应的影响,从器件、电路角度建模分析,给出了纳电子器件及其电路的辐射效应的分析方法和思路。本书对高

    • ISBN:9787121408410